专利 已注册

ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ຂອງອານຸພັນເບັນຊິມິດດາໂຊ ລ ແລະ ວິທີການກະກຽມດັ່ງກ່າວ

Overview

老挝专利「ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ຂອງອານຸພັນເບັນຊິມິດດາໂຊ ລ ແລະ ວິທີການກະກຽມດັ່ງກ່າວ」是 DIP 公开可查的知识产权档案,由 HK INNO.N CORPORATION 于 2015-12-29 提交申请,当前状态为已注册。标识字段包括:申请号 P/404;DIP 编号 LAP404;主管局代码 LA;保护类型 Patent - Foreign。时间线要点:公开/公告日 2025-12-19;授权日 2025-08-06;届满/失效参考日 2035-12-29。发明人 / 设计人包括 CHOI, Kwang Do、HEO, seung Pyeong、KIM, Eun Sun、KIM, Young Ju、KO, Dong Hyun 等。代理机构 / 代理人记载为 ACTIP IP LIMITED [ACTIP]。公开摘要提示:The present invention relates to a novel crystalline form of a benzimidazole derivative and a preparation method thereof. The novel crystal…。本摘要侧重编号、日期、分类与权利人等差异化字段,帮助搜索引擎与用户区分不同 IP 档案页面。

专利 老挝 DIP

申请号 P/404
申请日期 2015-12-29
注册/授权日 2025-08-06
申请人 HK INNO.N CORPORATION
代理机构 ACTIP IP LIMITED [ACTIP]
类别

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基础信息

类型
专利
申请号
P/404
状态
已注册
申请人
HK INNO.N CORPORATION
代理机构
ACTIP IP LIMITED [ACTIP]
申请日期
2015-12-29
注册号
P/404
公开/公告日
2025-12-19
注册/授权日
2025-08-06
届满日
2035-12-29
国际分类
商品 / 服务

办理流程

根据当前状态动态标注
  1. 提交申请
  2. 形式审查
  3. 实质审查
  4. 公开
  5. 授权

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摘要

ການປະດິດໃນປະຈຸບັນແມ່ນກ່ຽວຂ້ອງກັບ ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ຂອງອານຸພັນເບັນຊີມິດາໂຊລ ແລະ ວິທີການກະກຽມສິ່ງດັ່ງກ່າວ. ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ ອີງຕາມການປະດິດໃນປະຈຸບັນແມ່ນບໍ່ຄ່ອຍຈະມີການປ່ຽນແປງທາງເຄມີ ແລະ/ຫຼື ດ້ານກາຍຍະພາບ ພາຍໃຕ້ສະພາບການທີ່ມີຄວາມກົດດັນດ້ານຮູບພາບໃນໄລຍະຍາວ, ມີການດູດຊຶມຄວາມຊຸ່ມທີ່ຕໍ່າ, ແລະ ມີຄວາມສາມາດໃນການຜະລິດໄຟຟ້າແບບສະຖິດຕໍ່າທີ່ສຸດ, ດັ່ງນັ້ນ ຈຶ່ງເປັນປະໂຫຍດຕໍ່ການສ້າງ ແລະ ເນື່່ອງຈາກຄວາມສະຖຽນທີ່ດີເລີດຂອງຮູບແບບຜະລຶກນັ້ນ ຈຶ່ງມີປະໂຫຍດຫຼາຍສໍາລັບການເກັບຮັກສາປະສົມໃນໄລຍະຍາວ.

The present invention relates to a novel crystalline form of a benzimidazole derivative and a preparation method thereof. The novel crystalline form according to the present invention is hardly changed chemically and/or physically under a long-term photo-stressed condition, has a low hygroscopicity, and has an extremely low static-electricity-inducing capability, thus being advantageous for formulation, and due to the excellent stability of the crystal form itself, it is very useful for long-term storage of the compound

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