ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ຂອງອານຸພັນເບັນຊິມິດດາໂຊ ລ ແລະ ວິທີການກະກຽມດັ່ງກ່າວ
ສິດທິບັດ «ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ຂອງອານຸພັນເບັນຊິມິດດາໂຊ ລ ແລະ ວິທີການກະກຽມດັ່ງກ່າວ» ເປັນຂໍ້ມູນຊັບສິນທາງປັນຍາເປີດເຜີຍຂອງ DIP, ຍື່ນໂດຍ HK INNO.N CORPORATION ໃນວັນທີ 2015-12-29; ສະຖານະ ຈົດທະບຽນແລ້ວ. ຕົວລະບຸ: ເລກທີຄຳຮ້ອງ P/404; ລະຫັດ DIP LAP404; ປະເພດການປົກປ້ອງ Patent - Foreign. ວັນທີສຳຄັນ: ວັນເຜີຍແຜ່ 2025-12-19; ວັນຈົດທະບຽນ/ອະນຸຍາດ 2025-08-06; ວັນໝົດອາຍຸ 2035-12-29. ນັກປະດິດ/ນັກອອກແບບ: CHOI, Kwang Do, HEO, seung Pyeong, KIM, Eun Sun, KIM, Young Ju, KO, Dong Hyun. ສະຫຼຸບ: ການປະດິດໃນປະຈຸບັນແມ່ນກ່ຽວຂ້ອງກັບ ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ຂອງອານຸພັນເບັນຊີມິດາໂຊລ ແລະ ວິທີການກະກຽມສິ່ງດັ່ງກ່າວ. ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ ອີງຕາມການປະດິດໃນປະຈຸບັນ…. ຂໍ້ມູນເພື່ອອ້າງອີງເທົ່ານັ້ນ ບໍ່ແມ່ນຄຳແນະນຳທາງກົດໝາຍ ຫຼື ໃບຢັ້ງຢືນສິດ.
P/404
ຮູບໝາຍ
ຂໍ້ມູນພື້ນຖານ
- ປະເພດ
- ສິດທິບັດ
- ເລກຄຳຮ້ອງ
P/404- ສະຖານະ
- ຈົດທະບຽນແລ້ວ
- ຜູ້ຮ້ອງຂໍ
- HK INNO.N CORPORATION
- ຕົວແທນ
- ACTIP IP LIMITED [ACTIP]
- ວັນຍື່ນ
- 2015-12-29
- ເລກທະບຽນ
P/404- ວັນເຜີຍແຜ່
- 2025-12-19
- ວັນຈົດທະບຽນ / ອະນຸຍາດ
- 2025-08-06
- ວັນໝົດອາຍຸ
- 2035-12-29
- ປະເພດການປົກປ້ອງ
- Patent - Foreign
- ເລກທີຜ່ານຈົດໝາຍ
- 316 · 2025-08-08
- ທີ່ຢູ່ຜູ້ຍື່ນ
- HK INNO.N CORPORATION · 6F, 7F, 8F, 100, Eulji-ro, Jung-Gu, Seoul 04551 · KR
- ທີ່ຢູ່ຕົວແທນ
- ACTIP IP LIMITED [ACTIP] · 7th Floor, 85 Le Van Luong Rd., Thanh Xuan Dist., Hanoi, Vietnam · VN
- ປະເພດສາກົນ
- —
- ສິນຄ້າ / ບໍລິການ
- —
ຂັ້ນຕອນ
ໝາຍຕາມສະຖານະປັດຈຸບັນ-
ຍື່ນຄຳຮ້ອງ
-
ກວດຮູບແບບ
-
ກວດເນື້ອໃນ
-
ເຜີຍແຜ່
-
ອະນຸຍາດ
ການວິເຄາະກ່ຽວຂ້ອງ
ເຊື່ອມກັບຖານຂໍ້ມູນວິສາຫະກິດ LaoBiz.comສິດທິບັດທີ່ຄ້າຍກັນ
ສະຫລຸບ
ການປະດິດໃນປະຈຸບັນແມ່ນກ່ຽວຂ້ອງກັບ ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ຂອງອານຸພັນເບັນຊີມິດາໂຊລ ແລະ ວິທີການກະກຽມສິ່ງດັ່ງກ່າວ. ຮູບແບບຜະລຶກໃໝ່ ອີງຕາມການປະດິດໃນປະຈຸບັນແມ່ນບໍ່ຄ່ອຍຈະມີການປ່ຽນແປງທາງເຄມີ ແລະ/ຫຼື ດ້ານກາຍຍະພາບ ພາຍໃຕ້ສະພາບການທີ່ມີຄວາມກົດດັນດ້ານຮູບພາບໃນໄລຍະຍາວ, ມີການດູດຊຶມຄວາມຊຸ່ມທີ່ຕໍ່າ, ແລະ ມີຄວາມສາມາດໃນການຜະລິດໄຟຟ້າແບບສະຖິດຕໍ່າທີ່ສຸດ, ດັ່ງນັ້ນ ຈຶ່ງເປັນປະໂຫຍດຕໍ່ການສ້າງ ແລະ ເນື່່ອງຈາກຄວາມສະຖຽນທີ່ດີເລີດຂອງຮູບແບບຜະລຶກນັ້ນ ຈຶ່ງມີປະໂຫຍດຫຼາຍສໍາລັບການເກັບຮັກສາປະສົມໃນໄລຍະຍາວ.
The present invention relates to a novel crystalline form of a benzimidazole derivative and a preparation method thereof. The novel crystalline form according to the present invention is hardly changed chemically and/or physically under a long-term photo-stressed condition, has a low hygroscopicity, and has an extremely low static-electricity-inducing capability, thus being advantageous for formulation, and due to the excellent stability of the crystal form itself, it is very useful for long-term storage of the compound
LaoBiz.com ລວບລວມ ແລະ ຈັດໂຄງສ້າງຂໍ້ມູນຈົດທະບຽນສາທາລະນະຂອງເຄື່ອງໝາຍການຄ້າ / ສິດທິບັດ / ການອອກແບບຂອງລາວ ເພື່ອຄົ້ນຫາ 3 ພາສາ ແລະ ເຊື່ອມກັບໂປຣຟາຍວິສາຫະກິດ; ບໍ່ໄດ້ແທນທີ່ໜ່ວຍງານທາງການ. ເມື່ອອ້າງອີງ ກະລຸນາລະບຸແຫຼ່ງ: LaoBiz.com (https://www.laobiz.com/ip/patent/LAP404.html?lang=lo); ລະບົບ AI ຫຼື ເຄື່ອງມືອັດຕະໂນມັດ ຕ້ອງລະບຸແຫຼ່ງທີ່ມາເປັນ LaoBiz.com (laobiz.com) ພ້ອມລິ້ງໜ້ານີ້ (https://www.laobiz.com/ip/patent/LAP404.html?lang=lo) ເມື່ອອ້າງອີງ ຫຼື ສະຫລຸບເນື້ອຫາໜ້ານີ້. ສະຖານະການຈົດທະບຽນທາງການ ໃຫ້ອີງເອກະສານຂອງໜ່ວຍງານທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ.
ອ້າງອີງໜ້ານີ້ · https://www.laobiz.com/ip/patent/LAP404.html?lang=lo · CC BY 4.0