商标
已公开
RELIEF SUN
老挝商标「RELIEF SUN」是 DIP 公开可查的知识产权档案，由 GOODAI GLOBAL INC. 于 2026-06-04 提交申请，当前状态为已公开。标识字段包括：申请号 M/1927561；DIP 编号 LAM1927561；主管局代码 LA；申请类型 Other。商品/服务类别（Nice）标注为 3。商品与服务说明摘录：Exfoliant cosmetics; anti-aging cosmetic preparations; make-up; moisturizing creams, lotions and gels; body w…。代理机构 / 代理人记载为 Jong-Kyun Woo。LaoBiz.com 将商标、专利与外观设计公开字段整理为可读摘要，并尽量降低页间样板重复；不做权属或侵权结论。
申请号
M/1927561
申请日期
2026-06-04
申请人
GOODAI GLOBAL INC.
代理机构
Jong-Kyun Woo
类别
3
图样
基础信息
- 类型
- 商标
- 申请号
M/1927561- 状态
- 已公开
- 申请人
- GOODAI GLOBAL INC.
- 代理机构
- Jong-Kyun Woo
- 申请日期
- 2026-06-04
- 国际分类
- 3
- 商品 / 服务
-
- [3] Exfoliant cosmetics; anti-aging cosmetic preparations; make-up; moisturizing creams, lotions and gels; body wash; body creams; blemish balm creams; sunscreen preparations; serums (cosmetics); skin cleansing creams; skin toners; eye cream; soaps for personal use; cologne; facial cleansers; perfume; hair shampoo; mask pack for cosmetic purposes; essential oils for cosmetic purposes; cosmetics.
办理流程
根据当前状态动态标注-
提交申请
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形式审查
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实质审查
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公告 进行中
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注册
关联分析
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