ນໍ້າຢາຂັດຖຸ, ວິທີການເພື່ອຜະລິດຊັບສເຕຣດແກ້ວ, ແລະ ວິທີການເພື່ອຜະລິດ ແຜ່ນດີສແມ່ເຫຼັກ
关于老挝专利「ນໍ້າຢາຂັດຖຸ, ວິທີການເພື່ອຜະລິດຊັບສເຕຣດແກ້ວ, ແລະ ວິທີການເພື່ອຜະລິດ ແຜ່ນດີສແມ່ເຫຼັກ」，老商通整理了如下公开信息，由 HOYA Corporation 于 2018-10-31 提交申请，当前状态为已注册。标识字段包括：申请号 P/717；DIP 编号 LAP717；主管局代码 LA；保护类型 Patent - PCT National Phase。时间线要点：公开/公告日 2025-12-19；授权日 2025-10-03；届满/失效参考日 2038-10-31。技术或外观分类记载为 B24B 1/00、B24B 37/00、B24B 9/00、C09K 3/14、G11B 5/84。发明人 / 设计人包括 TAKIZAWA, toshio。代理机构 / 代理人记载为 Tilleke & Gibbins Lao Co.,Ltd。公开摘要提示：Letting a particle diameter be Dx [pmJ when a cumulative particle volume cumulated from the small particle diameter side reaches x[%] of th…。
This Laos Patent “POLISHING LIQUID, METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK” is a public DIP intellectual-property record, filed by HOYA Corporation on 2018-10-31; current status: Registered. Identifiers include application No. P/717; DIP id LAP717; protection kind Patent - PCT National Phase. Key dates: publication 2025-12-19; grant 2025-10-03; expiry reference 2038-10-31. Classification: B24B 1/00、B24B 37/00、B24B 9/00、C09K 3/14、G11B 5/84. Inventor(s)/designer(s): TAKIZAWA, toshio. Abstract hint: Letting a particle diameter be Dx [pmJ when a cumulative particle volume cumulated from the small particle diameter side reaches x[%] of th…. Status labels may change after office actions; refresh or consult primary DIP data before commercial decisions.
ກ່ຽວກັບ ສິດທິບັດ «ນໍ້າຢາຂັດຖຸ, ວິທີການເພື່ອຜະລິດຊັບສເຕຣດແກ້ວ, ແລະ ວິທີການເພື່ອຜະລິດ ແຜ່ນດີສແມ່ເຫຼັກ» ໃນລາວ, ຍື່ນໂດຍ HOYA Corporation ໃນວັນທີ 2018-10-31; ສະຖານະ ຈົດທະບຽນແລ້ວ. ຕົວລະບຸ: ເລກທີຄຳຮ້ອງ P/717; ລະຫັດ DIP LAP717; ປະເພດການປົກປ້ອງ Patent - PCT National Phase. ວັນທີສຳຄັນ: ວັນເຜີຍແຜ່ 2025-12-19; ວັນຈົດທະບຽນ/ອະນຸຍາດ 2025-10-03; ວັນໝົດອາຍຸ 2038-10-31. ປະເພດ/ຫ້ອງ: B24B 1/00、B24B 37/00、B24B 9/00、C09K 3/14、G11B 5/84. ນັກປະດິດ/ນັກອອກແບບ: TAKIZAWA, toshio. ສະຫຼຸບ: ກໍານົດໃຫ້ເສັ້ນຜ່າກາງອະນຸພາກແມ່ນ Dx [µm] ເມື່ອບໍລິມາດອະນຸພາກສະສົມ ຊຶ່ງຖືກສະສົມຈາກດ້ານຂ້າງເສັ້ນຜ່າກາງອະນຸພາກນ້ອຍຮອດ x[%] ຂອງບໍລິມາດອະນຸພາກລວມ…. ຂໍ້ຄວາມນີ້ເນັ້ນຕົວເລກ, ວັນທີ, ປະເພດ ແລະ ຜູ້ຍື່ນ ເພື່ອຫຼຸດຄວາມຄ້າຍຄືນລະຫວ່າງໜ້າ IP; ກວດຂໍ້ມູນທາງການກ່ອນຕັດສິນໃຈ.
P/717
图样
基础信息
- 类型
- 专利
- 申请号
P/717- 状态
- 已注册
- 申请人
- HOYA Corporation
- 代理机构
- Tilleke & Gibbins Lao Co.,Ltd
- 申请日期
- 2018-10-31
- 注册号
P/717- 公开/公告日
- 2025-12-19
- 注册/授权日
- 2025-10-03
- 届满日
- 2038-10-31
- 国际分类
- B24B 1/00 · B24B 37/00 · B24B 9/00 · C09K 3/14 · G11B 5/84
- 商品 / 服务
- —
办理流程
根据当前状态动态标注-
提交申请
-
形式审查
-
实质审查
-
公开
-
授权
关联分析
LaoBiz 企业数据库联动类似专利推荐
摘要
ກໍານົດໃຫ້ເສັ້ນຜ່າກາງອະນຸພາກແມ່ນ Dx [µm] ເມື່ອບໍລິມາດອະນຸພາກສະສົມ ຊຶ່ງຖືກສະສົມຈາກດ້ານຂ້າງເສັ້ນຜ່າກາງອະນຸພາກນ້ອຍຮອດ x[%] ຂອງບໍລິມາດອະນຸພາກລວມທັງໝົດໃນການແຜ່ກະຈາຍຂະໜາດອະນຸພາກທີ່ໄດ້ມາກ່ຽວຂ້ອງກັບອົກຊິດ ເຊຣຽມທີ່ຢູ່ໃນນໍ້າຢາຂັດຖຸ ຊຶ່ງນໍາໃຊ້ວິທີການກະຈາຍ/ການແຜ່ກະຈາຍລໍາແສງເລເຊີ, D5 ແມ່ນ 1 µm ຫຼື ໜ້ອຍກ່ວາ, ແລະ ຄວາມແຕກຕ່າງລະຫວ່າງ D95 ແລະ d5 ແມ່ນ 3 µm ຫຼື ຫຼາຍກ່ວາ.
Letting a particle diameter be Dx [pmJ when a cumulative particle volume cumulated from the small particle diameter side reaches x[%] of the total particle volume in a particle size distribution obtained regarding cerium oxide included in a polishing liquid using a laser diffraction/scattering method, D5 is 1 pm or less, and a difference between D95 and D5 is 3 pm or more.